比利时imec与ASML合作，实现芯片打印新突破

比利时微电子研究中心（imec）近日报告了与荷兰公司ASML合作所取得的重大进展，利用ASML最新研发的3.82亿美元芯片打印机实现了多个突破。

imec表示，他们在ASML最新一代的“High NA”设备上，成功在单次打印中实现了商用逻辑芯片和存储芯片中最精细电路的印刷，这一技术甚至能打印出更小的特征。

这一突破意味着，领先的芯片制造商在未来几年将能够利用这一设备生产出更小、更快的新一代芯片。imec首席执行官吕克·范登霍夫（Luc Van den Hove）指出，High NA设备将在持续缩小逻辑以及存储技术尺寸方面发挥关键作用。

此外，imec还表示，制造过程中所需的多种化学品和工具已在测试中得到应用，为商业化生产的实施铺平了道路。

作为计算机芯片制造商的重要设备供应商，ASML凭借其在光刻系统领域的主导地位，向市场提供了助力制造电路的巨大机器。High NA设备能够在较少的工序中打印出更小的特征，预计将为芯片制造商节省成本，同时也为其高昂的价格提供了合理依据。